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新型水溶性负性胶印用光刻蚀材料
  • 项目名称：新型水溶性负性胶印用光刻蚀材料
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：59373126
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：曹维孝
  • 依托单位：北京大学
  • 批准年度：1993
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高分子光敏材料基础研究
期刊论文 1
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