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大面积工件自源自偏压空心阴极放电及用于高硬超厚DLC薄膜沉积研究
  • 项目名称：大面积工件自源自偏压空心阴极放电及用于高硬超厚DLC薄膜沉积研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：11675047
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：田修波
  • 依托单位：哈尔滨工业大学
  • 批准年度：2016
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