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金属/a-Si:H界面的研究
项目名称:金属/a-Si:H界面的研究
项目类别:面上项目
批准号:18670809
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:廖显伯
依托单位:中国科学院半导体研究所
批准年度:1986
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