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GaAs基铁电/半导体异质结微结构与电性能的研究
  • 项目名称:GaAs基铁电/半导体异质结微结构与电性能的研究
  • 项目类别:青年科学基金项目
  • 批准号:51002022
  • 申请代码:E020803
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:2011-01-01-2013-12-31
  • 项目负责人:黄文
  • 负责人职称:副教授
  • 依托单位:电子科技大学
  • 批准年度:2010
中文摘要:

GaAs是一种具有高迁移率载流子的二元半导体,而以ABO3钙钛矿结构为代表的铁电体具有可翻转的极化特性。由于两者同为立方晶系,通过适当的生长和缓冲层技术可形成外延异质结构,其界面性质主要由各自的表面取向、极化特性与晶格常数失配等因素决定,这类种结构在光电应用方面具有重要意义。本课题以GaAs和ABO3铁电材料所构成的异质结为研究对象,研究内容有三点一、异质结的界面应力,通过适当的缓冲层,选择不同晶格失配度的体系,研究界面应力对外延取向,畴结构生长的影响;二、异质结界面对薄膜铁电、介电性能的影响;三、在前面两点基础上,重点研究异质结的铁电极化性质与GaAs的半导体输运性质的关联。通过实验与理论分析,探索界面对微结构与性能的影响。这些研究都是原创,可以为电子薄膜与器件制备及应用提供理论支持与实验指导。

结论摘要:

在国家自然基金青年项目资助下,本项目严格按照项目申请书的申请内容和预定目标,以GaAs和ABO3铁电材料所构成的异质结为研究对象,围绕以下三点内容展开了系统的研究工作,这其中包括一、异质结的界面应力,通过适当的缓冲层,选择不同晶格失配度的体系,研究界面应力对外延取向,畴结构生长的影响;二、异质结界面对薄膜铁电、介电性能的影响;三、异质结的铁电极化性质与GaAs的半导体输运性质的关联。项目执行时间三年中,进展顺利,项目负责人及其小组成员提出了一种利用临界厚度效应,控制STO界面层弹性应变生长的方法,并通过此方法制备了高度外延的BTO/STO/GaAs应变异质结,研究表明采用这种方法能在原子尺度改善铁电氧化物/半导体界面结构,并得到良好的铁电性能;首次发现ZnO/SrTiO3/GaAs异质结构中随温度变化的场致阻变效应,揭示了这类氧化物GaAs异质结中以肖特基界面阻挡层引起的电荷输运模式。这种独特的阻变效应为GaAs基忆阻器和实现太阳光全谱吸收提供了有意义的实验基础。 受本自然基金青年项目资助,项目执行三年期间,在国际高水平杂志共发表SCI收录相关论文十篇,其中包括APL一作一篇,申请美国发明专利一项,申请中国发明专利两项,项目负责人及其相关参研人员参与大型国际会议四人次,其中包括国际会议邀请报告三人次。 以上取得的成果达到了本项目的考核指标和预期目标,项目得以顺利完成。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 10
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
相关项目
期刊论文 52 会议论文 34 获奖 12
黄文的项目