采用分子束外延(MBE)生长技术在GaAs或InP衬底上进行材料制备,通过改变InxGa1-xAs量子阱中的In组分含量x、Si平面掺杂(delta掺杂)浓度、量子阱层的厚度、改变In0.52Al0.48As隔离层的厚度等实验生长条件,来研究如何增强自旋轨道相互作用。采用圆偏振PL谱、圆光电效应(Circular photogalvanic effect,简称CPGE)和Kerr旋转(Kerr rotation)实验及Shubnikov-de Hass (SdH)振荡实验相结合判断材料中是否存在零磁场自旋分裂。通过对磁阻的理论计算并与实验结果进行了对比,证明了零磁场自旋分裂和塞曼(Zeeman)相互竞争是造成磁阻振荡中出现拍频现象的原因。
英文主题词spintronics;zero-field spin splitting;Rashba spin splitting;two-dimensional electron gases