中文摘要：

金刚石膜硬度极高，传统的机械抛光方法效率低下、易产生机械损伤、且很难达到镜面。国内外近年来所开发的激光束扫描抛光、离子束刻蚀抛光、利用化学活性很强的稀土金属进行的化学抛光、等离子体抛光、电火花抛光、热铁板抛光等新的抛光方法，都存在设备运行复杂、抛光成本高、在精密超精密抛光时效率低等问题。目前金刚石膜的高效、精密、低成本抛光已成为影响其在高新技术和国防尖端技术领域应用的瓶径技术。本项申请提出研究在稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光方法及其高效、精密抛光机理。重点研究金刚石膜和抛光盘接触浅表面碳原子扩散条件的建立方法及在浅表面扩散环境下金刚石膜表面碳原子的扩散磨损机理；固态稀土金属对扩散到抛光盘表面的碳原子的在线清除机理；金刚石膜和抛光盘高速相对运动时的动力学特性及稳定性控制。本项研究的完成可望实现金刚石膜的高效率、低成本、精密乃至超精密抛光。