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低能氮离子注入金刚石薄膜的氮化改性研究
  • 项目名称：低能氮离子注入金刚石薄膜的氮化改性研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：10075012
  • 申请代码：A050406
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：2001-01-01-2003-12-01
  • 项目负责人：王培南
  • 负责人职称：教授
  • 依托单位：复旦大学
  • 批准年度：2000
中文摘要：

用氮气直流辉光放电方法产生的氮原子离子束对金刚石膜表面进行氮化。研究氮化层的形成、结构，尤其与金刚石膜的结构、氮化参数和氮化程度的关系，从而理解氮化过程的机理。研究氮化金刚石膜的物理特性，研究物理特性随氮化结构的变化。

中文主题词： 金刚石膜；氮化；C3N4；碳氮膜；物理特性
结论摘要：

英文主题词diamond film; nitridation; C3N4; carbon nitride film; physical property

成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
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  • 0
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  • 0
期刊论文
Study on the growth of CVD diamond thin films by in situ reflectivity measurement
Characterization of the high voltage pulsed discharge plasma of ammonia by emission spectroscopy
Raman spectral study on the carbon nitride film synthesized on a nitridated diamond surface by nitro
Enhanced dissociation and ionization of N2 in a pulsed discharge by adding NH3 or CH4 into nitrogen
氮原子离子束源的设计研制与应用
Ultra-thin freestanding diamond window for soft X-ray optics
Generation of nitrogen beams with very high N /N2 ratio using hollow cathode discharge
Growth and optical properties of nanocrystalline/microcrystalline diamond multilayer films
Field Emission Properties of α-C:N Films Deposited on Diamond Substrates
Microstructure and electronic properties of pulsed-discharge-deposited amorphous carbon-nitride film
获奖
氮化物新型材料的合成研究
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