位置：立项数据库 > 立项详情页
　无掩模纳米光刻机系统关键技术研究
  • 项目名称：　无掩模纳米光刻机系统关键技术研究
  • 批准号：2006AA03Z353
  • 项目来源：“十一五”国家高技术研究发展计划（863计划）新材料技术领域2006年度专题课题
  • 研究期限：2006-11-
  • 项目负责人：刘前
  • 依托单位：国家纳米科学中心
  • 批准年度：2006
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 1
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
期刊论文
高准确度多功能激光直写装置
刘前的项目
纳米薄膜力学性能直接测量新方法研究
期刊论文 2
全新纳米无掩模光刻研究
期刊论文 10 会议论文 3
应力诱导的有序薄膜纳米结构
期刊论文 23