中文摘要：

基于纳米金属结构(点、线、图形)的新功能材料及器件可广泛应用于平板显示、新能源、传感器等新兴产业领域。目前，传统微纳加工工艺（电子束光刻、自组装、干涉光刻等）存在工艺复杂、可控性差、无法实现大尺寸等缺点。 微接触印刷(uCP, Micro-Contact printing)也称为转印为金属微纳结构制造提供了一种新的技术手段，目前国内外尚未对具体工艺参数及结构容差方面做深入研究，本项目以纳米金属偏振器件为例，研究金属纳米转印技术中被转印金属层分别与转印载体、转印受体各材料之间相互作用的机理，研究纳米图形化结构形貌与金属层转印厚度的关系，并在现有转印技术方法的基础上，探索新的纳米转印方法，最终建立一套对工艺参数容差大的金属纳米转印方法，为金属功能器件的工程化制造奠定基础。