欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
著作
> 著作详情页
溅射技术在制备SiC薄膜中的应用
所属机构名称:天津理工大学
成果类型:著作
出版社:天津理工学院学报,2004年2期(录用)
语言:中文
相关项目:纳米碳化硅薄膜的制备、稀土掺杂及光电发射特性
作者:
李娟|刘技文|孙永昌|
同著作项目
纳米碳化硅薄膜的制备、稀土掺杂及光电发射特性
期刊论文 1
著作 3
同项目著作
Photoluminescence of SiC nanocrystal films prepared by RF magnetron sputtering
Contamination of Si surfaces in ultrahigh vacuum and formation of SiC islands