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Effect of arsenic doping on charge relaxation process in silicon nitride film for Capacitive RF MEMS
  • 所属机构名称：太原理工大学
  • 会议名称：The 40th International Conference on Micro and Nano Engineering 2014 (MNE2014)
  • 时间：2014.9.22
  • 成果类型：会议
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