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Chemical and physical characteristics of the single crystal silicon surface polished by the atmosphe
  • 所属机构名称：哈尔滨工业大学
  • 会议名称：International Conference on Heterogeneous Material Mechanics (ICHMM)
  • 成果类型：会议
  • 会场：Huangshan, PEOPLES R CHINA
  • 相关项目：常压射频反应等离子体抛光机理研究
作者： Wang, Y. S.|Dong, S.|Zhang, J. F.|Wang, B.|
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