中文摘要：

常压射频反应等离子体加工技术（又称大气等离子体化学加工技术）就是通过在常温常压下的等离子体化学反应来实现工件材料去除，其同时具备了高效、无残余应力的显著优势，是近年来国际光学加工领域一个非常重要的技术创新。本项目主要完成了以下工作在国内率先研制成功了常压等离子体抛光原型装置；采用量子化学计算和实际加工实验相结合的方法验证了在大气等离子体活性氛围中，超光滑表面形成的可行性，从理论上揭示了超光滑表面形成的微观机理；利用原子发光光谱分析的方法，完成了等离子体加工区域的活性粒子的浓度分布规律的研究，并建立了活性粒子的空间分布模型；完成了初步的工艺试验研究，建立了常压等离子体加工预测模型；对影响超光滑表面生成的物理及化学因素进行了初步的研究，从去除和抑制两个角度着手，对工艺过程进行控制，得到了亚纳米粗糙度的单晶硅表面。 在本项目研究期间，共发表文章10篇，其中，SCI检索4篇，EI检索3篇，另有一篇已被Chinese Optics Letters录用（拟发表在2011年第6期，SCI全检）。获得发明专利授权3项，申请发明专利1项。