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等离子体表面低温活化对晶圆键合的影响
所属机构名称:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
会议名称:第七届全国SOI技术研讨会, 2007年5月,无锡
成果类型:会议
相关项目:类金刚石薄膜为绝缘埋层的SOI新材料研究
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类金刚石薄膜为绝缘埋层的SOI新材料研究
期刊论文 7
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Study of SOI substrates incorporated with buried MoSi2 layer