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离子注入制备Si基稀磁半导体研究
  • 所属机构名称：武汉大学
  • 会议名称：2008年全国荷电粒子源、粒子束学术会议暨中国电工技术学会第十二届电子束离子束学术年会、中国电子学会焊接专业委员会第九届全国电子束焊接学术交流会、粒子加速器学会第十一届全国离子源学术交流会、中国机械工
  • 成果类型：会议
  • 会场：中国黑龙江哈尔滨
  • 相关项目：用加速器-电镜联机装置原位研究离子注入制备Si基稀磁半导体的动态过程
作者： 艾志伟|付德君|欧阳中亮|郭立平|施训|彭挺|黎明|陈海英|C.X.Liu|叶舟|杜红林|
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用加速器-电镜联机装置原位研究离子注入制备Si基稀磁半导体的动态过程
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