位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
电子束蒸发制备Si_(0.95)Co_(0.05)稀磁半导体薄膜
  • 所属机构名称：武汉大学
  • 会议名称：第二届全国核技术及应用研究学术研讨会
  • 成果类型：会议
  • 会场：中国四川绵阳
  • 相关项目：用加速器-电镜联机装置原位研究离子注入制备Si基稀磁半导体的动态过程
作者： 郭立平|程亮|叶舟|马亚军|阮学锋|吴昊|艾志伟|周忠坡|赵庆旺|
同会议论文项目
用加速器-电镜联机装置原位研究离子注入制备Si基稀磁半导体的动态过程
期刊论文 13 会议论文 8
同项目会议论文
镍基合金C276的辐照损伤研究
加速器-电镜联机装置及其应用研究
武汉大学离子辐照装置和辐照损伤研究
在线低能气体离子源
加速器-电镜联机的离子光路及其调整方案
Investigation by slow positron beam of defects in CLAM steel induced by helium and hydrogen implanta
离子注入制备Si基稀磁半导体研究