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Study on Feature Profile for Chlirine Etching of Silicon in a RF Bised sheath
  • 所属机构名称：大连理工大学
  • 会议名称：17th international conference on surface modification of materials by ion beams (SMMIB)
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：反应离子刻蚀微观不均匀性的跨尺度研究
作者： S. Q. Zhang|z. L. Dai|Y. N. Wang|
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期刊论文 13 会议论文 5
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