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Oxidation Suppression for YbSi2-x Formation and New Method to Extract Schottky Barrier Height by Adm
所属机构名称:复旦大学
会议名称:第七届结技术国际研讨会(IWJT-2007),2007年6月8-9日,日本京都。国际会议,特邀报告。
成果类型:会议
相关项目:纳米CMOS器件源漏新型低接触电阻材料和工艺研究
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