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基于 PAA 膜的硅基纳米阵列制备工艺及其光电性质研究
  • 所属机构名称：中国科学院半导体研究所
  • 会议名称：2009硅基光电子材料及器件学术会议
  • 成果类型：会议
  • 会场：北京
  • 相关项目：绝缘层上SiGe材料的制备及弛豫机理研究
作者： 成步文|
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