位置：成果数据库 > 会议 > 会议详情页
Stress-assistant selective etching mechanism for lithography-independent nanofabrication
  • 所属机构名称：北京大学
  • 会议名称：TRANSDUCERS 2009 - 15th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems
  • 成果类型：会议
  • 会场：Denver, CO, United states
  • 相关项目：基于聚焦离子束应力引入技术的三维纳米结构成型方法及理论研究
作者： Li, C.|Ding, F.|Xu, J.|Wu, W.G.|Yu, W.X.|Ni, C.|
同会议论文项目
基于聚焦离子束应力引入技术的三维纳米结构成型方法及理论研究
会议论文 4
同项目会议论文
Micro/nano-fabrication by focused-ion-beam stress-introducing technology
Focused-ion-beam introduced stress as a driving force for micro/nano-fabrication
Suspended nanoscale solenoid metal inductor with tens-nH level inductance