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基于GaAs STATZ模型的RF MOSFET DC建模技术
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:《半导体技术》
  • 时间:0
  • 分类:TN386[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]华东师范大学信息科学技术学院,上海200241, [2]淮海工学院电子工程学院,江苏连云港222005, [3]复旦大学ASIC国家重点实验室,上海201203
  • 相关基金:华东师范大学2010年优秀博士生培养基金项目(2010039)
中文摘要:

STATZ模型是表征GaAsMESFET特性的常用模型,具有表达式简洁、参数少的优点。通过尝试将STATZ模型用于表征射频MOSFET的直流特性,提取并在ADS软件中优化了STATZ直流模型的参数。为了提高仿真精度,模型必须考虑晶体管漏极与源极的寄生电阻,根据MOSFET处于强反型区且漏-源电压为零时的等效电路模型提取了晶体管的漏极和源极的寄生电阻。在ADS软件中利用STATZ模型对MOSFET的直流特性进行了仿真,测量的MOSFET直流曲线与仿真曲线一致性很好,验证了模型的良好的精确度,证明了GaAs STATZ模型可以用于表征射频MOSFET的直流特性。晶体管采用中芯国际的0.13μm RF CMOS工艺制作。

英文摘要:

The STATZ model is a popular model which characterizes the GaAs MESFET.The advantages of STATZ model are concise,few parameters expression.The RF MOSFET DC behavior was characterized based on GaAs STATZ model.The parameters of STATZ model were extracted and optimized in ADS.The drain and source resistances were considered to improve the simulation accuracy.The drain and source resistance were extracted based on the equivalent circuit model of the MOSFET in the strong inversion region and Vds=0.The MOSFET DC characteristics were modeling based on GaAs STATZ model in ADS.Good agreement was obtained between the simulated and measured results.The result of experiment validates the feasibility that GaAs STATZ model is applied to model MOSFET DC characteristics.The transistors are fabricated with SMIC 0.13 μm RF CMOS process.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
  • 邮编:050051
  • 邮箱:informax@heinfo.net
  • 电话:0311-87091339
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:6070