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Pattern density dependence of thermal deformation of extreme ultraviolet mask and its impact on full
  • ISSN号：0021-4922
  • 期刊名称：Japanese Journal of Applied Physics Part 1-Regular
  • 时间：0
  • 页码：5104-5111
  • 语言：英文
  • 相关项目：高数值孔径（NA>1）浸没光刻成像中偏振效应研究
作者： Zhou, Pengfei|Fei, Zhang|Li, Yanqiu|
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高数值孔径（NA>1）浸没光刻成像中偏振效应研究
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