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中文摘要：
本课题高数值孔径（NA>1）浸没光刻成像中偏振效应研究，完成了课题任务书中的研究内容和研究目标。完成了以下主要研究内容4种偏振照明光刻成像基本规律的研究;掩模对偏振光传播与成像的影响研究；抗蚀剂叠层对偏振光成像的影响研究;浸没液体对偏振成像的影响研究；偏振光经过整个光刻系统偏振状态的变化与控制研究; 掩模和浸没液体对偏振光成像影响的实验研究。解决了以下关键科学问题分析预言了掩模引起的偏振效应及其对光刻性能的影响；在抗蚀剂叠层中建立了更合理完善的偏振矢量成像理论模型和数值计算方法，实现更加合理优化工艺设计，提高偏振光刻成像质量；分析和明确了大数值孔径复杂光学系统中偏振光传播规律和偏振效应，为有效控制和利用偏振效应提供了科学基础。 实现了以下研究目标充实和完善了大数值孔径偏振光传播与成像理论；实现并完成偏振干涉成像的数值计算方法和软件开发；建立了大数值孔径偏振光传播特性的理论基础。发表论文27篇，申请专利10项。利用本课题和长江学者建设资助经费共同建立了实验研究平台。在本课题研究的基础上， 申请并获得2010年国家自然基金委重点基金项目和国家重大专项课题的资助。
结论摘要：
英文主题词polarized light; lithography imaging; high-NA; multi-layer coating; polarization mask
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