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High rate deposition of microcrystalline silicon films using jet-type inductively coupled plasma che
  • ISSN号:0042-207X
  • 期刊名称:Vacuum
  • 时间:2012
  • 页码:824-828
  • 相关项目:实现界面钝化的单晶硅/非晶硅纳米线异质结太阳电池研究
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