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Investigationof fused silica glass etching using C4F8/Ar inductively coupled plasmas forthrough glas
  • ISSN号：0946-7076
  • 期刊名称：Microsystem Technologies
  • 时间：2015.2
  • 页码：-
  • 相关项目：面向高密度三维集成的玻璃等离子体深刻蚀技术研究
作者： Xiang Meng Jing|
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