欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
无掩模激光干涉光刻技术研究
期刊名称:微纳电子技术
时间:0
页码:Vol.39, No.3, 39-42, 2002年3月
语言:中文
相关项目:无掩模激光干涉光刻研究
作者:
冯伯儒|张锦|宗德蓉|蒋世磊|苏平|陈宝钦|陈芬|
同期刊论文项目
无掩模激光干涉光刻研究
期刊论文 8
会议论文 8
同项目期刊论文
提高光刻图形质量的双曝光技术
用于大面积周期性图形制造的激光干涉光刻
红外可调声光滤光器的设计和特性分析
制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法
四激光束干涉光刻制造纳米级孔阵的理论分析
波前分割无掩模激光干涉光刻的实现方法研究
振幅分割无掩模激光干涉光刻的实现方法研究