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中文摘要：
研究新型激光干涉光刻提高分辨率、增大曝光视场和生成纳米图形的基本理论和方法；多光束曝光干涉数学物理模型和计算模拟；影响纳米图形象质与结构周期的因素；光刻曝光实验和工艺。该项目集激光、干涉光学和光刻于一体，对推进光刻极限、发展我国纳米微电子和光电子器件、新型大基片平板显示器和新型光刻机具有重要科学意义和广阔的应用前景。
结论摘要：
英文主题词Optical lithography, Maskless photolithography, Laser interferometric lithography.
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