欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Depth distribution of the stra
时间:0
相关项目:硅基无应变InGa(Al)N/InGaAlN量子阱的研究
作者:
Y. Lu, G. W. Cong, X. L. Liu,
同期刊论文项目
硅基无应变InGa(Al)N/InGaAlN量子阱的研究
期刊论文 20
会议论文 3
同项目期刊论文
Growth of crack-free GaN films
Influence of the growth temper
Design of the low-temperature
Crack control in GaN grown on
InN nanoflowers grown by metal
Metal-organic vapor phase epit
Crack-free InAlGaN quaternary
Effect of critical thickness o
Effect of an indium-doped barr
缓冲层厚度对MOCVD法生长GaN外延
Alloy compositional fluctuatio
Crack-free GaN/Si(111) epitaxi
InGaAlN 的生长及其微结构研究
Temperature dependence of nano
不同晶面蓝宝石和氧源对ZnO薄膜生长的影响