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Numerical Modeling of Gas Flow in Atomic Layer Deposition (ALD) Process: a Comparative Study of Latt
  • ISSN号：0022-5355
  • 期刊名称：Journal of Vacuum Science and Technology
  • 时间：2014
  • 页码：-
  • 相关项目：多尺度多场耦合的纳米TiO2薄膜制备精确能量模型研究
作者： Dongqing Pan|Tao li|Tien Chien Jen|Chris yuan|
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