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磁场在硅集成电路制造工艺中的应用
  • ISSN号：1006-4729
  • 期刊名称：《上海电力学院学报》
  • 时间：0
  • 分类：O441.2[理学—电磁学;理学—物理] TN4[电子电信—微电子学与固体电子学]
  • 作者机构：[1]上海电力学院数理系,上海201300
  • 相关基金：上海市青年科技启明星计划（07QA14026）;国家自然科学基金（10804072）.
作者： 赵雨[1], 陈东生[1]
关键词： 磁场, 半导体, 集成电路, 交叉科学, magnetic field , semiconductor, integrated circuit, intersiciplinary science
中文摘要：

分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用．简要论述了学科交叉的重要意义．

英文摘要：

Two items of application of magnetic field in silicon integrated circuit manufacture namely, Magnetic Field Applied Czochralski and Merle Etcher technology are introduced and analyzed. Importance of interdisciplinary science is discussed.

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期刊信息
  • 《上海电力学院学报》
  • 主管单位:上海市教育委员会
  • 主办单位:上海电力学院
  • 主编：张浩
  • 地址：上海市平凉路2103号
  • 邮编：200090
  • 邮箱：xuebaowu@126.com
  • 电话：021-35304995
  • 国际标准刊号：ISSN：1006-4729
  • 国内统一刊号：ISSN：31-1518/TM
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1995年上海高校自然科学学报优秀学报,1998年上海高校自然科学学报优秀学报
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）
  • 被引量:3643