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部分相干因子σ及其在相移掩模模拟软件中的应用
  • 期刊名称：光电工程
  • 时间：0
  • 作者或编辑：3448
  • 页码：1995，Vol.22,No.6,35-40
  • 语言：中文
  • 相关项目：提高光刻分辨率的相移掩模研究
作者： 阙珑|孙国良|冯伯儒|
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