位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
无铬相移掩模光刻技术
  • 期刊名称：光子学报
  • 时间：0
  • 作者或编辑：3448
  • 页码：1996，No.4，328-332
  • 语言：中文
  • 相关项目：提高光刻分辨率的相移掩模研究
作者： 冯伯儒|陈宝钦|
同期刊论文项目
提高光刻分辨率的相移掩模研究
期刊论文 6 会议论文 2
同项目期刊论文
相移掩模模拟软件的编制及相关重要问题
相移掩模对光刻图形空间像光强分布影响的计算机模拟
部分相干因子σ及其在相移掩模模拟软件中的应用
光掩模激光修补技术
光刻技术及其极限和发展前景