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相移掩模对光刻图形空间像光强分布影响的计算机模拟
  • 期刊名称：微细加工技术
  • 时间：0
  • 作者或编辑：3448
  • 页码：1995，No.1,7-14
  • 语言：中文
  • 相关项目：提高光刻分辨率的相移掩模研究
作者： 沈锋|冯伯儒|孙国良|
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