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Effects of Y doping on the structural stability and defect properties of cubic HfO2
  • ISSN号：0021-8979
  • 期刊名称：Journal of Applied Physics
  • 时间：0
  • 页码：074101-074106
  • 语言：英文
  • 相关项目：二氧化铪－硅界面和缺陷性质的第一原理研究
作者： Gong, X. G.|Hou, Z. F.|Li, Quan|Chen, G. H.|
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