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EDTA和KCl双掺杂下KDP溶液的稳定性研究
  • ISSN号:1000-985X
  • 期刊名称:人工晶体学报
  • 时间:0
  • 页码:616-623
  • 分类:O78[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]重庆大学动力工程学院,低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室,重庆400044
  • 相关基金:国家自然科学基金重点项目(50976127); 中央高校基本科研业务费资助(No.CDJRC10140003); 重庆大学“211工程”三期建设研究生开放实验室项目
  • 相关项目:溶液晶体生长成核研究
中文摘要:

研究了EDTA与KCl不同掺杂浓度和不同过饱和比下KDP溶液的成核过程,测定了不同条件下KDP过饱和溶液的诱导期;根据经典成核理论计算了成核热、动力学参数,并分析了溶液稳定性随掺杂浓度的变化情况。利用化学腐蚀法对KDP晶体(100)面进行了腐蚀,得到了清晰的位错蚀坑,并使用光学显微镜观察了(100)面位错蚀坑的分布特点。结果表明,当过饱和度为4%、掺杂浓度为0.01 mol%EDTA和1 mol%KCl时,不仅KDP过饱和溶液的稳定性比较高,而且位错蚀坑的分布比较均匀、密度小,适合高质量的KDP晶体生长。

英文摘要:

The nucleation process of KDP solution was investigated under different supersaturation ratio and concentration with EDTA and KCl double doped.The induction period of supersaturation solution under different growth conditions was measured.According to the classical nucleation theory,the thermodynamics and kinetic parameters of nucleation were calculated,and the changes of the solution stability with the concentration of codope were analyzed.The(100) plane of KDP was etched by thechemical etching and dislocation etching pits were obtained,and the distribution characterististics of dislocation etching pits were observed by opticalmicroscopy.The results indicated that higher solution stability,more even distribution of dislocation etching pits and lower dislocation density could be achieved under the condition of the supersaturation value of 4% and the concentration of 0.01 mol% EDTA and 1mol% KCl.This is a proper condition for the growth of high quality KDP crystal.

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期刊信息
  • 《人工晶体学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国建材工业协会
  • 主办单位:中国硅酸盐学会 晶体生长与材料专业委员会 中材人工晶体研究院
  • 主编:余明清
  • 地址:北京市733信箱
  • 邮编:100018
  • 邮箱:
  • 电话:010-65492963 65492968 65493320
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-985X
  • 国内统一刊号:ISSN:11-2637/O7
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 1997年获国家科技优秀期刊,获部级优秀科技期刊奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:9943