欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Novel high-voltage power lateral MOSFET with adaptive buried electrodes
ISSN号:1674-1056
期刊名称:Chinese Physics B
时间:0
页码:-
相关项目:SOI高压器件场控体电场降低REBULF理论与新结构
作者:
Zhang Wen-Tong|Wu Li-Juan|Qiao Ming|Luo Xiao-Rong|Zhang Bo|Li Zhao-Ji|
同期刊论文项目
SOI高压器件场控体电场降低REBULF理论与新结构
期刊论文 16
会议论文 7
专利 20
同项目期刊论文
A novel TFS-IGBT with a super junction floating layer
Breakdown voltage model and structure realization of thin silicon layer linear variable doping silic
ESD robustness studies on the double snapback characteristics of an LDMOS with an embedded SCR
A thick SOI UVLD LIGBT on partial membrane
Design of 700 V triple RESURF nLDMOS with low on-resistance
Analysis of the breakdown mechanism for an ultra high voltage high-side thin layer silicon-on-insula
The breakdown mechanism of a high-side pLDMOS based on a thin-layer silicon-on-insulator structure
SOI SJ high voltage device with linear variable doping interface thin silicon layer
A 700 V BCD technology platform for high voltage applications
Analysis of OFF-state and ON-state performance in a silicon-on-insulator power MOSFET with a low-k dielectric trench
A high voltage SOI pLDMOS with a partial interface equipotential floating buried layer
ESD performance of LDMOS with source-bulk layout structure optimization
Impact of parasitic resistance on the ESD robustness of high-voltage devices
期刊信息
《中国物理B:英文版》
中国科技核心期刊
主管单位:中国科学院
主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
主编:欧阳钟灿
地址:北京 中关村 中国科学院物理研究所内
邮编:100080
邮箱:
电话:010-82649026 82649519
国际标准刊号:ISSN:1674-1056
国内统一刊号:ISSN:11-5639/O4
邮发代号:
获奖情况:
国内外数据库收录:
被引量:406