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不同氧气分压下的MOCVD法氧化锌薄膜生长
  • ISSN号:1007-2780
  • 期刊名称:《液晶与显示》
  • 时间:0
  • 分类:TN304.21[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]吉林建筑工程学院电气与电子信息工程学院,吉林长春130021
  • 相关基金:教育部优秀人才支持计划项目(No.05-0326);;国家自然科学基金项目(No.60876013);;长春市科学技术局项目(No.2006303);;吉林省教育厅"十一五"科学技术研究计划项目(No.2009407)
中文摘要:

采用金属有机化学气相沉积方法,在不同氧气分压下,对硅衬底氧化锌薄膜材料生长做了研究。X-射线衍射方法对氧化锌薄膜的结晶质量做了比对测试。测试结果表明薄膜是沿着(002)方向生长。利用光荧光谱测试分析,对薄膜的发光特性做了研究,研究发现随着氧气分压增大,薄膜的紫外发光峰增强。通过原子力显微镜测试,对薄膜的表面形貌做了观察,发现结晶颗粒的平均粗糙度、均方根,以及平均直径随着氧气分压的增大呈现逐渐变小的趋势。

英文摘要:

ZnO thin films were grown on Si substrates by metal-organic chemical vapor deposition under different oxygen partial pressures,and the properties of the films were studied.It was found sharp diffraction peaks for ZnO(002)by X-ray diffraction,indicating the films were highly c-axis-oriented.The photoluminescence spectra of the ZnO films were studied.The surface morphology was studied by the atomic force microscopy.It was found that the ZnO films grew in a column-by-column process.The average grain size and the root-meansquare values for the film-surface morphology were decreasing with the increasing oxygen partial pressure.

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期刊信息
  • 《液晶与显示》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 中国光学光电子行业协会液晶分会 中国物理学会液晶分会
  • 主编:郭海成
  • 地址:长春市东南湖大路3888号
  • 邮编:130033
  • 邮箱:yjxs@ciomp.ac.cn
  • 电话:0431-86176059
  • 国际标准刊号:ISSN:1007-2780
  • 国内统一刊号:ISSN:22-1259/O4
  • 邮发代号:12-203
  • 获奖情况:
  • 中国科学论文统计源期刊,中国科学引文数据库来源期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:5470