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磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜
  • ISSN号:1001-9731
  • 期刊名称:《功能材料》
  • 时间:0
  • 分类:O484.1[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]北京航空航天大学理学院凝聚态与材料物理研究中心,北京100083, [2]北京印刷学院基础部,北京102500, [3]北京有色金属研究总院,北京100088
  • 相关基金:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2007CB936300)
中文摘要:

利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米Ni晚薄膜结构连续可控、可调节。

英文摘要:

In this paper,it is introduced that using a cooling apparatus based on liquid nitrogen,we have prepared NiOx films with nano-microcrystalline structure by reactive magnetron sputtering. X-ray diffiration(XRD) and Images of scanning electron microscope(SEM)demonstrate that when we employ equal sputtering parameters, using this method,we can effectively regulate or control grain size of NiOx films with nano-microcrystalline structure.

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期刊信息
  • 《功能材料》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:重庆材料研究院
  • 主办单位:重庆材料研究院
  • 主编:黄伯云
  • 地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
  • 邮编:400707
  • 邮箱:gnclwb@126.com
  • 电话:023-68264739
  • 国际标准刊号:ISSN:1001-9731
  • 国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
  • 邮发代号:78-6
  • 获奖情况:
  • 2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30166