欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Evidence of interface conversion and electrical characteristics improvement of ultra-thin HfTiO film
ISSN号:0003-6951
期刊名称:Applied Physics Letters
时间:2011.10.10
页码:-
相关项目:钛氮共掺氧化铪栅介质薄膜的界面抑制和性能调控
作者:
Ye, Cong|Wang, Yi|Zhang, Jun|Zhang, Jieqiong|Wang, Hao|Jiang, Yong|
同期刊论文项目
钛氮共掺氧化铪栅介质薄膜的界面抑制和性能调控
期刊论文 5
同项目期刊论文
Influence of rapid thermal annealing temperature on structure and electrical properties of high perm
EFFECT OF GATE ELECTRODES ON STRUCTURE AND ELECTRICAL PROPERTIES OF SPUTTERED HfO2 THIN FILMS
Composition dependence of band alignment and dielectric constant for Hf1-xTixO2 thin films on Si (10
Electrical, Optical and Micro-structural Properties of Ultra-thin HfTiON Films