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A magnetron sputtering technique to prepare a-C:H films: Effect of substrate bias
  • ISSN号:0169-4332
  • 期刊名称:Applied Surface Science
  • 时间:0
  • 页码:1990-1995
  • 语言:英文
  • 相关项目:空间环境条件下类金刚石复合碳膜的摩擦学行为及机理研究
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