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SOI在高压器件中的应用
ISSN号:1001-9731
期刊名称:《功能材料》
时间:0
分类:TN386.1[电子电信—物理电子学] O472+.4[理学—半导体物理;理学—物理]
作者机构:[1]中国科学院,上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,信息功能材料国家重点实验室,上海,200050 中国科学院,上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,信息功能材料国家重点实验室,上海,200050 中国科学院,上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,信息功能材料国家重点实验室,上海,200050 中国科学院,上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,信息功能材料国家重点实验室,上海,200050 中国科学院,上海微系统与信息技术研究所半导体功能薄膜工程技术研究中心,信息功能材料国家重点实验室,上海,200050
相关基金:国家重点基础研究专项经费(G20000365);国家自然科学基金资助项目(90101012);上海市科技发展基金资助项目(0252nm084和0359nm004)
作者:
王石冶[1], 刘卫丽[1], 张苗[1], 林成鲁[1], 宋志棠[1]
关键词:
SOI, 高压器, 击穿电压
中文摘要:
综述了绝缘层上的硅(SOI)材料在高压器件中的应用,分析了SOI高压器件的不同结构,并对现在最常用的RESURF LDMOS高压器件结构,以及不同器件参数对击穿电压的影响进行了分析和讨论.
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期刊论文 2
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期刊信息
《功能材料》
北大核心期刊(2011版)
主管单位:重庆材料研究院
主办单位:重庆材料研究院
主编:黄伯云
地址:重庆北碚区蔡家工业园嘉德大道8号
邮编:400707
邮箱:gnclwb@126.com
电话:023-68264739
国际标准刊号:ISSN:1001-9731
国内统一刊号:ISSN:50-1099/TH
邮发代号:78-6
获奖情况:
2008、2011年连续获中国精品科技期刊,2010获重庆市双十佳期刊
国内外数据库收录:
美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
被引量:30166