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压强对磁控溅射沉积铌膜耐磨和耐蚀性的影响
  • ISSN号:1002-185X
  • 期刊名称:《稀有金属材料与工程》
  • 时间:0
  • 分类:TG146[金属学及工艺—金属材料;一般工业技术—材料科学与工程;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构:[1]哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江哈尔滨150001, [2]深圳国际技术创新研究院,深圳518057
  • 相关基金:国家自然科学基金(No.50373007),新世纪优秀人才支持计划
中文摘要:

采用直流磁控溅射在钢基体上制备了铌薄膜,分别采用扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、球盘式摩擦磨损实验机和电化学分析仪研究了不同溅射气压下铌膜表面形貌、相结构、耐磨性以及耐蚀性。结果表明:低压强下,晶粒细小,膜层平滑,晶粒择优取向为(110)晶面:压强升高使得晶粒粗大,粗糙度明显提高,择优取向转变为(211)晶面。较高的和较低的溅射压强对耐磨性和耐蚀性的提高较大,适中的压强对铌膜的性能提高反而较小,这可能是由于表面缺陷和组织结构的不同造成的。

英文摘要:

Niobium films were deposited on the steel substrate using DC sputtering deposition. Influence of sputtering gas pressure on surface morphology, phase structure, wear resistance and corrosion resistance of niobium films has been investigated by scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), ball-on-disc tester and electrochemical tester respectively. Lower sputtering gas pressure results in the formation of fine-grained and smooth coating with (110) preferred crystal. Higher pressure gives rise to coarse grain, larger roughness and preferential crystal of (211). Better wear resistance and corrosion resistance have been exhibited at the higher or the lower pressure. In contract moderate pressure may lead to worse surface properties. It may be due to the difference of defects on the surfaces and textures of niobium films.

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期刊信息
  • 《稀有金属材料与工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国有色金属学会 中国材料研究学会 西北有色金属研究院
  • 主编:张平祥
  • 地址:西安市51号信箱
  • 邮编:710016
  • 邮箱:RMME@c-nin.com
  • 电话:029-86231117
  • 国际标准刊号:ISSN:1002-185X
  • 国内统一刊号:ISSN:61-1154/TG
  • 邮发代号:52-172
  • 获奖情况:
  • 首届国家期刊奖,中国优秀期刊一等奖,中国有色金属工业优秀期刊1等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:24715