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拓扑绝缘体HgTe纳米材料制备技术
  • 期刊名称:材料导报A
  • 时间:2012.12.12
  • 页码:8-13
  • 分类:O64[理学—物理化学;理学—化学] O65[理学—分析化学;理学—化学]
  • 作者机构:[1]桂林理工大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室,新材料及其制备新技术广西壮族自治区重点实验室,桂林541004, [2]中科院福建物质结构研究所,福州350002, [3]桂林理工大学环境科学与工程学院,桂林541004
  • 相关基金:国家自然科学基金(21063005;50968005);结构化学国家重点实验室科学基金(20100017)
  • 相关项目:近红外Hg系硫族化物纳米荧光探针的控制合成研究
中文摘要:

概述了近期碲化汞纳米材料的各种制备技术的研究进展,并总结了制备、技术中出现的问题。结合晶体生长机理,分析了碲化汞量子点、纳米线等典型的形貌特征。介绍了碲化汞制备技术研究中具有代表性的几个课题组的研究动向。结合本课题组的研究进展,讨论了碲化汞制备过程中碲源和汞源所存在的问题。最后展望了碲化汞的制备技术改进。

英文摘要:

Recent progress on preparation technology of HgTe nanomaterial is reviewed, and some problems in the preparation process are summarized. The typical morphologies, such as HgTe quantum dots and nanowires, are analyzed combining with the mechanism of crystal growth. The research trends of some representative groups are in- troduced. According to the research progress of our group, existing problems of Hg and Te sources in preparation process of HgTe are discussed. Finally, a prospect for improving the preparation technology of HgTe nanomaterial is proposed.

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