中文摘要：

在常温下，用射频磁控溅射在石英衬底上沉积厚度约为200nm的Ti02薄膜，使用波长为248nm的KrF脉冲激光器，在不同功率密度下对薄膜样品进行辐照退火处理，并采用x射线衍射（xRD）、拉曼（Raman）、X射线电子能谱（XPS）、原子力显微镜（AFM）、扫描电子显微镜（SEM）、高分辨率扫描隧道显微镜（HRTEM）以及选择区域电子衍射（SAED）、紫外可见分光光度计等方法分析不同激光功率密度退火对Ti02薄膜的结构、表面形貌和透射率等性能的影响。结果表明当激光功率密度为0．5J／cm2时，可获得高质量的锐钛矿TiOe薄膜，当继续增大光功率密度时，Ti02薄膜变为（110）取向的金红石相，其薄膜表面粗糙度也相应增大。

英文摘要：

TiO2 thin films of about 200 nm thickness were prepared by RF magnetron sputtering on quartzsubstrates at room temperature, and then annealed by a KrF pulse laser with wavelength 248 nm underdifferent power densities in the air. The effect of laser power density on the characteristics of films was sys-tematically analyzed using X-ray diffractometry （XRD）, Raman spectra, X-ray photoelectron spectroscopy（XPS）, scanning electron microscopy （SEM）, atom force microscopy （AFM）, high resolution transmissionelectron microscopy （HRTEM） and selected area electron diffraction （SAED） and UV-vis spectrophotome-ter. The results showed that high-quality anatase TiO2 films can be obtained when the power density was0.5 J/cm2. By increasing the power density continually, TiO2 showed the predominant orientation withrutile phase along （1 1 0） refiection, with roughness of the films increasing.