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Plasmonic lithography with 100nm overlay accuracy
  • ISSN号：1003-501X
  • 期刊名称：《光电工程》
  • 时间：0
  • 分类：TB[一般工业技术]
  • 作者机构：State Key Laboratory of Optical Technologies on Nano-Fabrication and Micro-Engineering, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, China
  • 相关基金：supported by the 973 Program of China （2013CBA01700）; the National Natural Science Funds （61138002）
作者： Minggang Liu, Chengwei Zhao, Changtao Wang, Xiangang Luo
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期刊信息
  • 《光电工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国科学院光电技术研究所 中国光学学会
  • 主编：罗先刚
  • 地址：四川省成都市双流350信箱
  • 邮编：610209
  • 邮箱：oee@ioe.ac.cn
  • 电话：028-85100579
  • 国际标准刊号：ISSN：1003-501X
  • 国内统一刊号：ISSN：51-1346/O4
  • 邮发代号:62-296
  • 获奖情况:
  • 四川省第二次期刊质量考评自然科学期刊学术类质量...,四川省第二届优秀期刊评选科技类期刊三等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘（网络版）,荷兰文摘与引文数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊（2004版）,中国北大核心期刊（2008版）,中国北大核心期刊（2011版）,中国北大核心期刊（2014版）,中国北大核心期刊（2000版）
  • 被引量:14003