欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
The modulation of Schottky barrier height of NiSi/n-Si Schottky diodes by silicide as diffusion sour
ISSN号:1674-1056
期刊名称:Chinese Physics B
时间:0
页码:4465-4469
语言:英文
相关项目:适于32纳米及以下集成电路技术节点的新型源漏结构GOI器件的研究
作者:
Xu, Cong|Huang, Ru|Guo, Yue|Wang, Yang-Yuan|An, Xia|Zhang, Xing|Fan, Chun-Hui|
同期刊论文项目
适于32纳米及以下集成电路技术节点的新型源漏结构GOI器件的研究
期刊论文 7
会议论文 1
专利 2
同项目期刊论文
Schottky Barrier Height Modulation of Nickel Germanide Schottky Diodes By Germanidation Induced Dopa
高迁移率Ge沟道器件研究进展
Impact of nitrogen plasma passivation on the interface of germanium MOS capacitor
Experimental clarification of orientation dependence of germanium PMOSFETs with Al2O3/GeOx/Ge gate stack
期刊信息
《中国物理B:英文版》
中国科技核心期刊
主管单位:中国科学院
主办单位:中国物理学会和中国科学院物理研究所
主编:欧阳钟灿
地址:北京 中关村 中国科学院物理研究所内
邮编:100080
邮箱:
电话:010-82649026 82649519
国际标准刊号:ISSN:1674-1056
国内统一刊号:ISSN:11-5639/O4
邮发代号:
获奖情况:
国内外数据库收录:
被引量:406