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激光冲击处理对ZnO薄膜性能的影响
  • ISSN号:0258-7025
  • 期刊名称:中国激光
  • 时间:2015.5.15
  • 页码:0507001-7
  • 分类:TB43[一般工业技术]
  • 作者机构:[1]江苏大学机械工程学院,江苏镇江212013, [2]江苏大学材料科学与工程学院,江苏镇江212013
  • 相关基金:国家自然科学基金(51175234)
  • 相关项目:激光冲击波诱发提高铜纳米薄膜电性能的工艺及机理
中文摘要:

采用射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备了多组分Zn O基陶瓷薄膜,利用Nd∶YAG激光器对多组分Zn O基陶瓷薄膜进行了激光冲击处理,研究了激光冲击处理对多组分Zn O基陶瓷薄膜压敏电性能的影响。结果表明,激光冲击处理后,薄膜的晶粒尺寸显著减小,表面更加平整致密。薄膜的压敏电性能得到了不同程度的改善,其中非线性系数的提高幅度最大为65.2%,压敏电压降低幅度最大为38.92%,漏电流密度降低幅度最大为30.51%。薄膜中晶粒细化,晶格畸变加强,晶界处的界面态密度激增,导致薄膜非线性系数激增,从而有效改善了多组分Zn O基陶瓷薄膜的压敏电性能。

英文摘要:

ZnO-based ceramic films are deposited on Si (111) substrates by radio frequency magnetron sputtering technique, and the films are shocked by the Nd : YAG laser. The effect of laser shock on the electrical property of ZnO-based ceramic films is investigated. The results show that after laser shock processing, the films' grain size is reduced significantly and the surface are more smooth and compact. The electrical properties of films have been improved in varying degrees. The nonlinear coefficient is largest raised by 65.2%, the breakdown voltage is largest decreased by 38.92%, the leakage current density is largest decreased by 24.4%. After the laser shock processing, with the grain refinement and lattice distortion, the interface-state density is sharply increased, which leads to the improvement of the nonlinear coefficient. Therefore the electrical property of ZnO-based ceramic films is excellent.

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期刊信息
  • 《中国激光》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国光学学会 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 主编:周炳琨
  • 地址:上海市嘉定区清河路390号
  • 邮编:201800
  • 邮箱:cjl@siom.ac.cn
  • 电话:021-69917051
  • 国际标准刊号:ISSN:0258-7025
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1339/TN
  • 邮发代号:4-201
  • 获奖情况:
  • 中国自然科学核心期刊,物理学类核心期刊,无线电子学·电信技术类核心期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:26849