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Interfacial layer growth of ZrO2 films on silicon
  • ISSN号：0042-207X
  • 期刊名称：Vacuum
  • 时间：0
  • 页码：847-851
  • 语言：英文
  • 相关项目：反应活性等离子体对功能薄膜的生长行为和薄膜质量的影响
作者： Zhang, Q. Y.|Ma, C. Y.|
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期刊论文 32 会议论文 4
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