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Effect of O2 gas partial pressure on structures and dielectric characteristics of rf sputtered ZrO2
  • ISSN号：0169-4332
  • 期刊名称：Applied Surface Science
  • 时间：0
  • 页码：8718-8724
  • 语言：英文
  • 相关项目：反应活性等离子体对功能薄膜的生长行为和薄膜质量的影响
作者： Ma, C.Y.|Briois, P.|Zhang, Q.Y.|Lapostolle, F.|
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期刊论文 32 会议论文 4
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