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磁控溅射Ni56Mn27Ga17合金薄膜的光学反射特性研究
  • ISSN号:1005-5630
  • 期刊名称:光学仪器
  • 时间:2013.6
  • 页码:85-88
  • 分类:TG111.92[金属学及工艺—物理冶金;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构:[1]东北石油大学电子科学学院,黑龙江大庆163318
  • 相关基金:基金项目:国家自然科学基金资助项目(51101027);黑龙江省新世纪优秀人才支持计划项目(1253-NCET-002);黑龙江省高校青年学术骨干支持项目(1251G004);黑龙江省教育厅科技项目(12511004)
  • 相关项目:镍锰镓/磁致伸缩材料/镍锰镓磁驱动记忆合金多层膜研究
中文摘要:

Ni—Mn—Ga磁性形状记忆合金薄膜是非常有用的多功能材料,为考察其光学反射特性,采用磁控溅射技术在单晶硅衬底上沉积了Ni56Mn27Ga17合金薄膜,并对其表面形貌和光学反射特性进行研究。研究结果表明,薄膜的表面粗糙度随退火温度的升高而增大;在300~800nm波长范围内,薄膜反射率均随波长的减小而降低,且薄膜整体谱线范围内的反射率随退火温度的升高而降低。

英文摘要:

Ni-Mn-Ga magnetic shape memory alloy thin films are promising candidate of multi-functional materials. In order to explore its optical reflective properties, Ni56Mn27Ga17 thin film was deposited onto single silicon substrate by using magnetron sputtering technique. The surface morphology and optical reflective properties of the thin film were investigated with atomic force microscopy and spectrophotometer. The results showed that the surface roughness of the thin film increased with increasing annealing temperature, and the optical reflectivity of thin film decreased with decreasing wavelength in the range of wavelength between 300 and 800 nm. And the reflectivity of the thin film in the whole spectra range decreased with annealing temperature increase.

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期刊信息
  • 《光学仪器》
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:上海光学仪器研究所 中国仪器仪表学会光 中国光学学会工程光学专业委员会
  • 主编:
  • 地址:上海市军工路516号
  • 邮编:200093
  • 邮箱:gxyq@chinajournal.net.cn
  • 电话:021-55270110
  • 国际标准刊号:ISSN:1005-5630
  • 国内统一刊号:ISSN:31-1504/TH
  • 邮发代号:
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  • 国内外数据库收录:
  • 被引量:3858